光子学的商业价值
Ansys Lumerical的综合光子学模拟和分析工具套件,提供组件级和系统级模拟,以优化性能,最大限度地降低物理原型成本,缩短上市时间。增强的设计流程使设计师与紧凑的模型校准,以领先的铸造工艺。
Ansys Lumerical的综合光子学模拟和分析工具套件,提供组件级和系统级模拟,以优化性能,最大限度地降低物理原型成本,缩短上市时间。增强的设计流程使设计师与紧凑的模型校准,以领先的铸造工艺。
2021年7月
2021年发布的R2提供了强大的能力,加快了时间,提高了模拟精度,并扩展了与其他Ansys产品的互操作性。
MODE拥有你所需要的一切来最大限度地利用你的波导和耦合器设计。
CHARGE为设计人员提供了在半导体器件中进行全面电荷传输模拟的正确工具。
基于有限元法,HEAT为设计师提供了全面的热建模能力。
Ansys Lumerical的光子集成电路模拟器验证了多模、双向、多通道PICs。
使验证,自动化,交叉模拟器光子紧凑模型库(CML)生成。
与业界领先的EDA模拟器结合使用时,可实现多模、多通道和双向光子电路建模。
Ansys Lumerical的光子学模拟和设计能力使工程师能够模拟纳米光子学器件、电路、工艺和材料。
我们的解决方案无缝协作,因此您可以在光子学中建模最具挑战性的问题。工具之间灵活的互操作性使各种工作流程能够将设备多物理和系统级光子电路模拟与第三方设计自动化和生产力工具相结合。
FDTD方法的精细优化实现在广泛的应用程序中提供可靠、强大和可扩展的求解器性能。集成的设计环境提供脚本功能、高级后处理和优化例程,所有这些都允许您专注于自己的设计。
带有可参数化仿真对象的3D CAD环境允许快速模型迭代。建立2D和3D模型,定义自定义表面和体积,并从标准CAD和IC布局格式导入几何图形。
集成创建了一个强大的工作流环境。Lumerical软件提供基于INTERCONNECT图形PIC模拟器和Verilog-A平台的流程,这两个平台都可以验证多模式、双向和多通道电路。Ansys的PIC仿真工具与业界领先的EDA仿真器一起工作,以促进集成系统的设计和实现。
跨多个Lumerical工具构建、运行和控制模拟,或与第三方应用程序交互。利用Lumerical脚本语言、Matlab或Python来使用数值分析、可视化、优化等。
Lumerical提供了一套集成的工具来建模许多常见的边缘发射激光拓扑。混合建模方法将物理仿真的准确性与光子集成电路仿真的性能和规模相结合。从soa和独立的FP和DFB激光器到复杂的外腔DBR和环形或采样光栅游标激光器,设计和建模一切。
自动发现理想的目标性能的最佳几何形状和发现非直观的几何形状,以优化性能,最小化面积和提高制造能力。使用基于形状或拓扑优化并模拟性能以找到最佳解决方案。
经过验证的,自动化的,交叉模拟器光子紧凑模型库(CML)生成。CML Compiler从表征测量和3D仿真结果的单一数据源自动创建、维护和QA测试INTERCONNECT和Verilog-A光子紧凑模型库(CML)。